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產品分類兆聲波噴嘴中的換能器產生一個兆聲波,通過流動液體(如去離子水)傳輸到基板表面。兆聲波能量集中在2毫米或4毫米的一個小點上。
SONOSYS®兆聲波噴嘴的頻率為:400kHz (新)/ 600 kHz(新)/1兆赫/2兆赫/3兆赫/4兆赫和5兆赫。
無水槽的兆聲波噴嘴系統能夠提供先進的非接觸清洗工藝。
應用:
清洗單個晶圓、掩模、LCD、基板和微機電系統(MEMS),以及光學行業中600 kHz的較大顆粒,來自醫療設備和傳感器
兆聲波能量集中在2毫米或4毫米的一個小點上。
SONOSYS®兆聲波噴嘴的頻率為:400kHz (新)/ 600 kHz(新)/1兆赫/2兆赫/3兆赫/4兆赫和5兆赫。